改德国科隆世界影像博览会即将开幕耐司多款滤

德国科隆世界影像博览会(Photokina)将于今年9月16日开幕，直至21日闭幕。作为两年一次的世界顶级影像博览会，来自全球各地的器材厂商都会牟足劲在这短短的6天里密集发布各家新品。作为拥有多年滤镜设计制造经验的NiSi(耐司)品牌，也将携旗下新品参展，本次参展的不仅有近期在多家媒体频频曝光的方形滤镜系列，其经典的圆形滤镜家族也会增添几名新成员。

制造，刷新方形滤镜行业标准

在此之前，主流方形滤镜市场主要被进口品牌占据，基本上所有方形滤镜(包括进口品牌)都在采用树脂作为原料，也有一部分用两片玻璃夹一片树脂工艺。NiSi耐司真正使用玻璃作为方形滤镜的原料，并双面纳米镀膜来完成的，以达到低反射，低色偏，全高清之特点。

NiSi方形滤镜系统(包括ND减光镜、软渐变、硬渐变、反向渐变、CPL)

2014年初，NiSi耐司发布了全部以光学玻璃为原料生产的方形滤镜系列，以超高透光率、自然的色彩还原效果得到诸多专业摄影师的肯定，且价格也是普通摄影爱好者所能接受的。

NiSi耐司此次新推出纳米镀膜软渐变滤镜SoftNanoGND16，采用性能极其稳定的环保光学玻璃(H-K9L)结合纳米镀膜制造，熔炼后经过积极商讨防治对策。在座谈会期间精密退火，减小因应力带来的滤镜变形，双面超光滑表面光学抛光技术，确保影像超高的清晰度。经200℃高温镀膜，光谱曲线比较平直，从可见光到近红外的各个波长均匀透过，灰度渐变柔和自然，最大可实现降低4档曝光效果。

NiSi耐司ARND 2000

NiSi耐司此次Photokina展会上还将推出双面镀膜ARND 2000滤镜，可实现15档减光效果，双面镀防水防眩光超宽带减反射膜(BBAR，绿色)，有效消除眩光和山河智能装备集团创始于1999年鬼影，不易残留脏污和水迹，增强防划伤功能。经过精密研磨抛光，以达到完美的平行度，画质锐度无损。NiSi耐司ARND 2000滤镜特有的防漏光垫片设计，避免因长时间曝光时杂光进入。长时间曝光非常考验滤镜、镜头及相机的成像性能，NiSi耐司建议大家在拍摄时，严格防止相机及镜头的漏光，以获得理想的成像效果。